2024-2030年中國三氟化氮市場分析與投資前景研究報告

報告說明:
    博思數(shù)據(jù)發(fā)布的《2024-2030年中國三氟化氮市場分析與投資前景研究報告》介紹了三氟化氮行業(yè)相關概述、中國三氟化氮產(chǎn)業(yè)運行環(huán)境、分析了中國三氟化氮行業(yè)的現(xiàn)狀、中國三氟化氮行業(yè)競爭格局、對中國三氟化氮行業(yè)做了重點企業(yè)經(jīng)營狀況分析及中國三氟化氮產(chǎn)業(yè)發(fā)展前景與投資預測。您若想對三氟化氮產(chǎn)業(yè)有個系統(tǒng)的了解或者想投資三氟化氮行業(yè)，本報告是您不可或缺的重要工具。
三氟化氮（nitrogen trifluoride）化學式NF，在常溫下是一種無色、無臭、性質(zhì)穩(wěn)定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，高純?nèi)�氟化氮具有�?yōu)異的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在蝕刻時，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運用。

報告目錄：
第一章 三氟化氮產(chǎn)品概述
1.1 電子特種氣體——三氟化氮概述
1.2 三氟化氮的產(chǎn)業(yè)與市場簡述
1.2.1三氟化氮的應用領域
1.2.2三氟化氮的市場簡況
1.2.3 三氟化氮的產(chǎn)業(yè)簡況
1.3 三氟化氮行業(yè)的特點
1.3.1 行業(yè)興衰與半導體、光伏、液晶顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展有著關系密切
1.3.2 三氟化氮產(chǎn)品優(yōu)勢得到發(fā)揮
1.3.3 市場壟斷性強
1.3.4 近年全球三氟化氮應用市場在迅速擴大
1.4 在當前環(huán)境保護要求的形勢變化下三氟化氮產(chǎn)品趨勢預測成為變數(shù)
1.4.1 三氟化氮成為氣候變化新威脅UNFCC已將其列入“監(jiān)管”氣體之中
1.4.2 三氟化氮替代產(chǎn)品得到發(fā)展
第二章 電子特種氣體、氟化工品應用市場
2.1 電子特種氣體概述
2.2 電子特種氣體制造中的主要技術方面
2.3 電子特種氣體的純凈度要求
2.4 電子特種氣體產(chǎn)品市場競爭的焦點問題
2.4.1 對電子特種氣體雜質(zhì)、純度要求的問題
2.4.2 氣體配送及供應問題
2.4.3 儲存、使用中的安全性問題
2.4.4 成本性問題
2.5 國內(nèi)外電子特種氣體行業(yè)發(fā)展概述
2.5.1 境外電子特種氣體生產(chǎn)與市場情況
2.5.2 國內(nèi)電子特種氣體行業(yè)及其發(fā)展
2.6 氟化工產(chǎn)業(yè)概述
2.6.1 氟化工產(chǎn)業(yè)中的重要產(chǎn)品
2.6.2 我國氟化工產(chǎn)業(yè)發(fā)展情況
第三章 三氟化氮的主要特性
3.1 物理特性
3.2 毒性及危險性
3.3 反應性
3.4 相關的安全性
3.5 主要性能及標準
3.5.1 對純度的一般質(zhì)量指標要求
3.5.2 美國氣體及化學產(chǎn)品公司的NF3的工業(yè)標準及產(chǎn)品不同等級標準要求
3.5.3 SEMI的三氟化氮標準
3.5.4 三氟化氮 我國國家標準（GB/T 21287-2011）
第四章 三氟化氮的主要生產(chǎn)工藝方法
4.1 NF3的制備方法
4.1.1 概述
4.1.2 直接化合法
4.1.3 氟和氟化氫銨法
4.1.5 電解法
4.2 NF3粗品純化工藝加工
4.2.1 NF3粗品純化工藝法的種類
4.2.2 低溫精餾法
4.2.3 化學吸收法
4.2.4 化學轉(zhuǎn)化法
4.2.5 選擇吸附法
4.3 安全生產(chǎn)的問題
4.4 在半導體晶元工廠的供應系統(tǒng)
第五章 三氟化氮的主要應用領域概述
5.1 概述
5.2 三氟化氮在集成電路中的應用
5.2.1 集成電路芯片制程
5.2.2 化學氣相沉積和氣體應用
5.3 作為清洗劑、刻蝕劑在半導體制造中的應用
5.3.1 替代PFC作為清洗劑
5.3.2 等離子增強化學氣相沉積（PECVD）
5.3.3 在PECVD的干刻蝕、清洗加工中的應用
5.4 高純NF3在薄膜硅太陽電池中的應用
5.4.1 非晶硅薄膜太陽能電池
5.4.2 Si薄膜的材料特性
5.4.3 非晶硅薄膜太陽能電池制作工藝及高純硅烷其應用
5.5 用三氟化氮作氟化劑
5.5.1 六氟化鎢的理化性質(zhì)及用途
5.5.2 NF3是制造WF6
5.5.3 世界WF6 的生產(chǎn)現(xiàn)況
5.5.4 國內(nèi)生產(chǎn)WF6的情況
5.6 三氟化氮作為氟源在化學激光器中應用
5.7 NF3在IC和TFT-LCD應用市場擴展的三階段
5.8 NF3在不同應用領域中應用量的比例
第六章 世界及我國NF3的半導體市場運營狀況分析與分析
6.1 世界半導體硅片生產(chǎn)與市場發(fā)展
6.1.1 世界半導體生產(chǎn)的現(xiàn)況
6.1.2 世界半導體硅片的生產(chǎn)狀況
6.2 我國半導體晶圓生產(chǎn)與市場現(xiàn)況與發(fā)展
6.2.1 我國集成電路市場、產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
6.2.2 我國集成電路晶圓制造業(yè)情況
6.2.3 我國集成電路晶圓主要生產(chǎn)廠家情況
第七章 世界及我國NF3的液晶顯示器市場運營狀況分析與分析
7.1 世界平板顯示器產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)況
7.2 我國平板顯示器產(chǎn)業(yè)現(xiàn)況與未來發(fā)展預測
7.2.1 我國液晶顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展概述
7.2.2 我國LCD面板生產(chǎn)現(xiàn)況與未來幾年發(fā)展預測
7.2.3 我國發(fā)展平板顯示產(chǎn)業(yè)的相關政策及未來發(fā)展的預測、分析
第八章 世界及我國NF3的薄膜硅太陽電池市場運營狀況分析與分析
8.1 國內(nèi)外光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展
8.1.1 世界光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展
8.1.2 我國光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展環(huán)境與現(xiàn)況
8.2 薄膜太陽能電池的生產(chǎn)與市場
8.2.1 薄膜太陽能電池特點及品種
8.2.2 薄膜太陽能電池未來市場前景預測
8.2.3 薄膜太陽能電池生產(chǎn)及在光伏市場上的份額變化
8.3 國內(nèi)外薄膜太陽能電池的主要生產(chǎn)企業(yè)
8.3.1 境外薄膜太陽能電池生產(chǎn)廠家概況
8.3.2 國內(nèi)薄膜太陽能電池生產(chǎn)廠家概況
第九章 世界NF3的生產(chǎn)現(xiàn)狀與發(fā)展
9.1 概述
9.2 世界三氟化氮生產(chǎn)現(xiàn)況
9.3 美國的NF3生產(chǎn)現(xiàn)狀與廠家
9.3.1 美國AP公司
9.3.2 杜邦公司
9.4 日本的NF3生產(chǎn)現(xiàn)狀與廠家
9.4.1 關東電化工業(yè)公司
9.4.2 三井化學公司
第十章 我國國內(nèi)NF3的生產(chǎn)現(xiàn)狀與發(fā)展
10.1 國內(nèi)NF3生產(chǎn)的發(fā)展
10.2 國內(nèi)NF3生產(chǎn)需求市場
10.3 國內(nèi)NF3的主要生產(chǎn)廠家
10.3.1 國內(nèi)NF3的生產(chǎn)廠家概述
10.3.2 中核紅華特種氣體股份有限公司
10.3.3 湖北沙隆達天門農(nóng)化有限責任公司
10.3.4 中國船舶重工集團第七一八研究所
10.3.5 其它廠家
10.4 國內(nèi)與NF3氣體相關的科研、協(xié)會機構
圖表目錄：
圖表：半導體制造業(yè)用特種氣體按其使用時的特性分類情況
圖表：全球半導體工業(yè)用主要幾種高純度氣體的市場規(guī)模變化情況
圖表：氟化工產(chǎn)業(yè)鏈的構成情況
圖表：NF3分子結構圖
圖表：SEMI標準中NF3中 CF4、CO2、N2O、SF6和 CO 的分析流程圖
圖表：氣-固反應器圖
圖表：氣-液反應器圖
圖表：氣-液反應法的生產(chǎn)流程圖
圖表：電解槽結構圖
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